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美国收紧限制后,11月中国从荷兰进口芯片制造设备价值额激增十倍

美国收紧限制后,11月中国从荷兰进口芯片制造设备价值额激增十倍

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    据报道,2023年11月,中国从荷兰进口的关键芯片制造光刻设备按价值计算激增了1050%,这表明在美国收紧出口限制后,中国国内半导体公司未被切断获得先进设备订单的渠道。


    11月,中国进口了16台荷兰光刻设备,价值7.627亿美元,同比增长10倍。相比之下,10月中国进口了21台光刻设备,价值6.725亿美元。每台平均价格相差46%,这表明尽管美国一直试图阻挠,但中国企业仍在继续获得更先进的系统。

 


    荷兰是光刻机的最大出口国,光刻机用于制造世界上最先进的芯片,几乎所有的先进光刻机都来自荷兰ASML。


    今年11月,中国共进口了42台光刻机,价值8.168亿美元。其中15台来自日本,日本是业界重量级企业佳能和尼康的总部所在地。荷兰和日本加在一起,几乎占了中国11月进口光刻机的全部金额。


    光刻设备是一种复杂的投影曝光系统,是集成电路(IC)制造过程中所需的10类设备中最重要的一类。中国被认为在这项技术上落后多年,尽管投入了大量资金,但在很大程度上仍未能缩小与领先企业的差距。


    尽管中国多年来一直在推动此技术自力更生,但根据CanSemi公司在2023年8月的数据,截至2021年,中国晶圆厂使用的光刻系统中只有不到5%是中国本土制造的。


    日本和荷兰已对芯片制造设备实施出口管制,这影响了其对华销售。


    在美国商务部10月扩大针对中国的出口管制规定后,中国进口量连续两个月飙升。在有关光刻设备的部分,美国废除了适用于某些深紫外(DUV)光刻设备的最小比例原则,该原则设定的标准高于荷兰9月生效的出口规则。


    如果非美国公司的任何产品含有25%及以上的美国技术,最小比例原则将赋予美国对该产品的长臂管辖权。然而,该规则的最新调整实质上使得此类技术的比例变得无关紧要。


    新规定从2023年11月起生效,限制荷兰的ASML向中国一些从事先进半导体制造的工厂出售某些浸润式DUV光刻设备,包括其TwinscanNXT:1980Di。


    不过,ASML的CEO皮特·温宁克(PeterWennink)表示,最新的限制措施将绝大多数中国客户排除在外,因为这些客户涉足成熟或传统的半导体制造,即28nm及以上的半导体制造。
    分析师们对如何解读11月进口量的增长看法不一。一些分析师认为,进口量激增可能是在限制措施生效前匆忙出货的结果。


    半导体研究公司SemiAnalysis首席分析师迪伦·帕特尔(DylanPatel)表示,大多数中国晶圆厂仍然可以从ASML购买DUV光刻机,甚至中芯国际也可以,只是不能为其上海工厂购买。


    柏林智库“新责任基金会”高级研究员、科技与地缘政治项目主任克莱恩汉斯(Jan-PeterKleinhans)表示,销售额不会立即下降,因为2023年11月出货的设备很可能是在2022年底或2023年初获得了许可证。


    克莱恩汉斯表示,ASML的准备时间约为18个月,这意味着在2023年第四季度发货的设备应该是在2022年第二或第三季度订购的,ASML会在之后的某个时候申请出口许可证。

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